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週次 |
日期 |
單元主題 |
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第1週 |
2/20/2012 |
Introduction and Process Overview |
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第3週 |
3/5/2012 |
Ch 3: Semiconductor Physics -- Part 1 |
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第4週 |
3/12/2012 |
Ch 3: Semiconductor Physics -- Part 1 |
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第5週 |
3/19/2012 |
Ch 3: Semiconductor Physics -- Part 2 |
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第6週 |
3/26/2012 |
Ch 3: Semiconductor Physics -- Part 3 |
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第7週 |
4/2/2012 |
Ch 3: Semiconductor Physics -- Part 3 |
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第8週 |
4/9/2012 |
Ch 4: Si Wafers |
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第10週 |
4/23/2012 |
Midterm Exam |
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第11週 |
4/30/2012 |
Ch 5: Oxidation and Diffusion |
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第12週 |
5/7/2012 |
Ch. 6 Lithography |
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第13週 |
5/14/2012 |
Ch 7 Plasma &
Special Topic: Vacuum Technique |
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第14週 |
5/21/2012 |
Ch 7: Plasma and Ch 8: Ion Implantation |
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第15週 |
5/28/2012 |
Ch 9: Etching |
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第16週 |
6/4/2012 |
Ch10 CVD, Dielectric; Ch11 Metallization |
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第17週 |
6/11/2012 |
Ch12 CMP and Special Tech |